Tiefenschärfe Mikroskop - Versionsgeschichte

Loeffler-Kamann am 3. Juni 2025 um 11:25 Uhr

2025-06-03T11:25:47Z

← Nächstältere Version		Version vom 3. Juni 2025, 13:25 Uhr
Zeile 70:		Zeile 70:

	In [1] sind einige ausgewählte Werte-Tripel, welche die üblichen Arbeitsbereiche von TEM, REM und LM abdecken, zusammengestellt.		In [1] sind einige ausgewählte Werte-Tripel, welche die üblichen Arbeitsbereiche von TEM, REM und LM abdecken, zusammengestellt.

			==Siehe auch==
			*[[Fraktographie]]
			*[[Auflösung Laserextensometer-Gerätesysteme]]
			*[[Oberflächenprüftechnik]]
			*[[Metallographie]]

Loeffler-Kamann am 10. Juli 2024 um 11:29 Uhr

2024-07-10T11:29:16Z

← Nächstältere Version		Version vom 10. Juli 2024, 13:29 Uhr
Zeile 6:		Zeile 6:
	* [[Elektronenmikroskopie]]		* [[Elektronenmikroskopie]]
	* [[Energiedispersive Röntgenspektroskopie\|Energiedispersive Röntgenspektroskopie – EDX]]		* [[Energiedispersive Röntgenspektroskopie\|Energiedispersive Röntgenspektroskopie – EDX]]
	* [[~~in-~~situ-Ultramikrotomie]]		* [[In situ Ultramikrotomie]]
	* Low-Vacuum-Rasterelektronenmikroskopie (siehe [[Umgebungs-REM]])		* Low-Vacuum-Rasterelektronenmikroskopie (siehe [[Umgebungs-REM]])
	* [[Mikrotomie]]		* [[Mikrotomie]]
Zeile 79:		Zeile 79:
	\|-valign="top"		\|-valign="top"
	\|[2]		\|[2]
	\|Reimer, L., Pfefferkorn, G.: Raster-Elektronenmikroskopie. Springer~~-Verlag~~ Berlin, Heidelberg, New York (1977) (ISBN 978-3-540-08154-0)		\|Reimer, L., Pfefferkorn, G.: Raster-Elektronenmikroskopie. Springer Berlin, Heidelberg, New York, 2. Auflage (1977) (ISBN 978-3-540-08154-8; E-Book: ISBN 978-3-642-81112-8)
	\|-valign="top"		\|-valign="top"
	\|[3]		\|[3]

Oluschinski am 4. August 2023 um 10:15 Uhr

2023-08-04T10:15:28Z

← Nächstältere Version		Version vom 4. August 2023, 12:15 Uhr
Zeile 79:		Zeile 79:
	\|-valign="top"		\|-valign="top"
	\|[2]		\|[2]
	\|Reimer, L., Pfefferkorn, G.: Raster-Elektronenmikroskopie. Springer-Verlag Berlin, Heidelberg, New York (~~1973~~)		\|Reimer, L., Pfefferkorn, G.: Raster-Elektronenmikroskopie. Springer-Verlag Berlin, Heidelberg, New York (1977) (ISBN 978-3-540-08154-0)
	\|-valign="top"		\|-valign="top"
	\|[3]		\|[3]
	\|Pfefferkorn, G.: Das Rasterverfahren in der Elektronenmikroskopie. Mikroskopie (Wien) 34 (1978), ~~80/112~~		\|Pfefferkorn, G.: Das Rasterverfahren in der Elektronenmikroskopie. Mikroskopie (Wien) 34 (1978), 80–112
	\|}		\|}

	[[Kategorie:Licht]]		[[Kategorie:Licht]]
	[[Kategorie:Morphologie und Mikromechanik]]		[[Kategorie:Morphologie und Mikromechanik]]

Posch am 14. Mai 2020 um 12:49 Uhr

2020-05-14T12:49:46Z

← Nächstältere Version		Version vom 14. Mai 2020, 14:49 Uhr
Zeile 35:		Zeile 35:
	\|-		\|-
	\|width="20px"\|		\|width="20px"\|
	\|width="500px" \| <math> tg \alpha = \frac{\frac{\delta}{2}}{\frac{T}{2}}=\frac{\delta}{T}; T=\frac{\delta}{\alpha}</math>		\|width="500px" \| <math> tg \alpha = \frac{\frac{\delta}{2}}{\frac{T}{2}}=\frac{\delta}{T};\ T\approx\frac{\delta}{\alpha}</math>
	\|(1)		\|(1)
	\|}		\|}
Zeile 54:		Zeile 54:
	\|-		\|-
	\|width="20px"\|		\|width="20px"\|
	\|width="500px" \| <math> T = \delta \cdot \sqrt{\frac{2}{\lambda^2}-1}</math>		\|width="500px" \| <math> T = \delta \cdot \sqrt{(\frac{\delta}{\lambda})^2-1}</math>
	\|(2)		\|(2)
	\|}		\|}

Reincke am 18. Dezember 2017 um 11:53 Uhr

2017-12-18T11:53:27Z

← Nächstältere Version		Version vom 18. Dezember 2017, 13:53 Uhr
Zeile 85:		Zeile 85:
	\|}		\|}

			[[Kategorie:Licht]]
	[[Kategorie:Morphologie und Mikromechanik]]		[[Kategorie:Morphologie und Mikromechanik]]

Oluschinski: Die Seite wurde neu angelegt: „{{PSM_Infobox}} Tiefenschärfe Mikroskop (Schärfentiefe) FORCETOC ==Mikroskopische Methoden== Zur Char…“

2017-08-15T11:15:09Z

Die Seite wurde neu angelegt: „{{PSM_Infobox}} Tiefenschärfe Mikroskop (Schärfentiefe) __FORCETOC__ ==Mikroskopische Methoden== Zur Char…“

Neue Seite

{{PSM_Infobox}}
Tiefenschärfe Mikroskop (Schärfentiefe)
__FORCETOC__
==Mikroskopische Methoden==
Zur Charakterisierung der [[Mikroskopische Struktur|Struktur]] und Morphologie von [[Kunststoffe]]n werden in der [[Kunststoffprüfung]] und [[Kunststoffdiagnostik|Diagnostik]] die Methoden der Licht- und Elektronenmikroskopie eingesetzt. Dabei werden die nachfolgenden Untersuchungsmethoden bevorzugt verwendet:
* [[Elektronenmikroskopie]]
* [[Energiedispersive Röntgenspektroskopie|Energiedispersive Röntgenspektroskopie – EDX]]
* [[in-situ-Ultramikrotomie]]
* Low-Vacuum-Rasterelektronenmikroskopie (siehe [[Umgebungs-REM]])
* [[Mikrotomie]]
* [[Rasterkraftmikroskopie]]
* [[Rasterelektronenmikroskopie]]
* [[Ultramikrotomie]]
* [[Umgebungs-REM]] (ESEM)
* [[Transmissionselektronenmikroskopie]]

Die optische Leistungsfähigkeit von Mikroskopen wird durch die folgenden Parameter charakterisiert [1]:
* [[Auflösungsvermögen_Mikroskop|Auflösungsvermögen]]
* [[Förderliche_Vergrößerung_Mikroskop|Förderliche Vergrößerung]]
* Schärfentiefe

==Die Schärfentiefe==

Die Schärfentiefe T eines Mikroskops ergibt sich aus der Beleuchtungsapertur α und dem Auflösungsvermögen δ (siehe '''Bild 1'''), nach [2, 3]:

[[Datei:tiefenschaerfe1.jpg]]
{|
|- valign="top"
|width="50px"|'''Bild 1''':
|width="600px" |Zusammenhang zwischen Beleuchtungsapertur α und dem Auflösungsvermögen δ eines Mikroskops
|}

{|
|-
|width="20px"|
|width="500px" | <math> tg \alpha = \frac{\frac{\delta}{2}}{\frac{T}{2}}=\frac{\delta}{T}; T=\frac{\delta}{\alpha}</math>
|(1)
|}

mit

{|
|-
|width="20px"|
|width="500px" | <math> \delta = \frac{\lambda}{n \cdot sin \alpha}</math>
|
|}

ergibt sich für n = 1 und kleine Werte von α:

{|
|-
|width="20px"|
|width="500px" | <math> T = \delta \cdot \sqrt{\frac{2}{\lambda^2}-1}</math>
|(2)
|}

==Zusammenhang zwischen Schärfentiefe, Förderlicher Vergrößerung und Auflösungsvermögen==

Die Beziehungen zwischen förderlicher Vergrößerung Vförd, Auflösungsvermögen δ und Schärfentiefe T sind in '''Bild 2''' für [[Rasterelektronenmikroskopie|Rasterelektronenmikroskope]] (Apertur 10-2 bzw. 10-3) und Lichtmikroskope angegeben (nach [2, 3]).

[[Datei:tiefenschaerfe2.jpg]]
{|
|- valign="top"
|width="50px"|'''Bild 2''':
|width="600px" |Zusammenhänge zwischen Schärfentiefe T, förderlicher Vergrößerung Vförd und Auflösungsvermögen δ für [[Rasterelektronenmikroskopie|Rasterelektronenmikroskope]] (REM) (Apertur 10-2 bzw. 10-3) und Lichtmikroskope (LM); nach [2, 3]
|}

In [1] sind einige ausgewählte Werte-Tripel, welche die üblichen Arbeitsbereiche von TEM, REM und LM abdecken, zusammengestellt.

'''Literaturhinweise'''
{|
|-valign="top"
|[1]
|Kämpf, G.: Charakterisierung von Kunststoffen mit physikalischen Methoden. Verfahren und praktische Anwendung. Carl Hanser Verlag, München Wien (1982), S. 19–21, (ISBN 3-446-13382-8; siehe [[AMK-Büchersammlung]] unter D 4)
|-valign="top"
|[2]
|Reimer, L., Pfefferkorn, G.: Raster-Elektronenmikroskopie. Springer-Verlag Berlin, Heidelberg, New York (1973)
|-valign="top"
|[3]
|Pfefferkorn, G.: Das Rasterverfahren in der Elektronenmikroskopie. Mikroskopie (Wien) 34 (1978), 80/112
|}

[[Kategorie:Morphologie und Mikromechanik]]